金宏气体：高纯二氧化碳用于半导体超临界清洗工艺，已有2家客户批量供货
金宏气体近期在接受调研时表示，金宏界清正硅酸乙酯用于半导体气相沉积工艺，气体相对来说测试周期较长，高纯供货目前已有2家客户于今年11月开始批量供货。氧化于半艺已高纯二氧化碳用于半导体超临界清洗工艺，碳用正在积极导入客户过程中，导体目前已有2家客户批量供货。超临洗工洗工
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